北京中金研新材料科技有限公司（CNM）是坐落于中关村科技园区的国家高新技术企业，由业内龙头企业为发起人，整合了国内科研院校的优势资源，吸收国内外先进科学的管理经验而成立。人才储备丰富，资金力量雄厚，通过ISO9001:2008质量体系及ISO14001:2004环境管理体系认证，具有自主进出口权。

   北京中金研新材料科技有限公司在各种高纯材料、镀膜材料、溅射靶材、功能材料及应用技术研究开发方面，有着得天独厚的优势。以坚强的技术为基础，我公司开发了多个系列的新材料，这些产品牌号约百余种。已在航空航天、军工、信息电子、真空镀膜、冶金、功能材料、生物医药、新能源等行业获得广泛应用。目前拥有镀膜材料、溅射靶材、高纯材料、高纯合金等多条生产线，生产设备先进，工艺完善。

目前，我们的客户遍及美国．德国．日本．韩国．台湾．香港等十几个国家和地区，包括国内外科研军工，上市公司等知名企事业在内的六百余家单位。

    北京中金研新材料科技有限公司下设镀膜材料、溅射靶材、金属粉末、高纯材料等事业部，热烈欢迎新老客户垂询。我公司秉承以诚信为本，科技为本的理念，致力打造成金属新材料行业的领头羊。

主要产品：

磁控溅射靶材

（可为电子与半导体，平面显示行业，建筑与汽车玻璃行业，薄膜太阳能电池行业，磁存储行业，工具行业，装饰行业提供高品质靶材）

高纯单质金属溅射靶材（3N-6N）：铝靶材Al，铬靶材Cr，铜靶材Cu，镍靶材Ni，硅靶材Si，锗靶材Ge，铌靶材Nb，钛钯材Ti，铟靶材In，银靶材Ag，锡靶材Sn，石墨靶材C，钽靶材Ta，钼靶材Mo，金靶材Au，铪靶材Hf，锰靶材Mn，锆靶材Zr，镁靶材Mg，锌靶材Zn，铅靶材Pb，铱靶材Ir，钇靶材Y，铈靶材Ce，镧靶材La，镱靶材Yb，钆靶材Gd，铂靶材Pt等高纯单质金属溅射靶材。

高密度陶瓷溅射靶材（3N-5N）：ITO靶材、AZO靶材，IGZO靶材，氧化镁靶材MgO、氧化钇靶材Y2O3，氧化铁靶材Fe2O3,氧化镍靶材Ni2O3，氧化铬靶材Cr2O3、氧化锌靶材ZnO、硫化锌靶材ZnS、硫化镉靶材CdS，硫化钼靶材MoS2，二氧化硅靶材SiO2、一氧化硅靶材SiO、二氧化锆靶材ZrO2、五氧化二铌靶材Nb2O5、二氧化钛靶材TiO2,二氧化铪靶材HfO2，二硼化钛靶材TiB2，二硼化锆靶材ZrB2，三氧化钨靶材WO3，三氧化二铝靶材Al2O3，五氧化二钽靶材Ta2O5、氟化镁靶材MgF2、硒化锌靶材ZnSe、氮化铝靶材AlN，氮化硅靶材Si3N4，氮化硼靶材BN，氮化钛靶材TiN，碳化硅靶材SiC，铌酸锂靶材、钛酸镨靶材、钛酸钡靶材、钛酸镧靶材等高密度陶瓷溅射靶材.




备注：CNM生产的陶瓷靶材采用世界*先进的陶瓷生产工艺—惰性气体保护热等静压烧结技术，相对密度大于95-99%。可以提供靶材的金属化处理及绑定服务。
北京中金研新材料科技有限公司（CNM）是坐落于中关村科技园区的国家高新技术企业，由业内龙头企业为发起人，整合了国内科研院校的优势资源，吸收国内外先进科学的管理经验而成立。人才储备丰富，资金力量雄厚，通过ISO9001:2008质量体系及ISO14001:2004环境管理体系认证，具有自主进出口权。

   北京中金研新材料科技有限公司在各种高纯材料、镀膜材料、溅射靶材、功能材料及应用技术研究开发方面，有着得天独厚的优势。以坚强的技术为基础，我公司开发了多个系列的新材料，这些产品牌号约百余种。已在航空航天、军工、信息电子、真空镀膜、冶金、功能材料、生物医药、新能源等行业获得广泛应用。目前拥有镀膜材料、溅射靶材、高纯材料、高纯合金等多条生产线，生产设备先进，工艺完善。

目前，我们的客户遍及美国．德国．日本．韩国．台湾．香港等十几个国家和地区，包括国内外科研军工，上市公司等知名企事业在内的六百余家单位。

    北京中金研新材料科技有限公司下设镀膜材料、溅射靶材、金属粉末、高纯材料等事业部，热烈欢迎新老客户垂询。我公司秉承以诚信为本，科技为本的理念，致力打造成金属新材料行业的领头羊。

磁控溅射靶材

（可为电子与半导体，平面显示行业，建筑与汽车玻璃行业，薄膜太阳能电池行业，磁存储行业，工具行业，装饰行业提供高品质靶材）

高纯单质金属溅射靶材（3N-6N）：铝靶材，Al靶材，铬靶材，Cr靶材，铜靶材，Cu靶材，镍靶材，Ni靶材，硅靶材，S靶材，锗靶材，Ge靶材，铌靶材，Nb靶材，钛钯材，Ti靶材，铟靶材，In靶材，银靶材，Ag靶材，锡靶材，Sn靶材，石墨靶材，C靶材，钽靶材，Ta靶材，钼靶材，Mo靶材，金靶材，Au靶材，铪靶材，Hf靶材，锰靶材，Mn靶材，锆靶材，Zr靶材，镁靶材，Mg靶材，锌靶材，Zn靶材，铅靶材，Pb靶材，铱靶材，Ir靶材，钇靶材，Y靶材，铈靶材，Ce靶材，镧靶材，La靶材，镱靶材，Yb靶材，钆靶材，Gd靶材，铂靶材，Pt靶材等高纯单质金属溅射靶材。

高密度陶瓷溅射靶材（3N-5N）：ITO靶材、AZO靶材，IGZO靶材，氧化镁靶材，MgO靶材、氧化钇靶材，Y2O3靶材，氧化铁靶材，Fe2O3靶材,氧化镍靶材，Ni2O3靶材，氧化铬靶材，Cr2O3靶材、氧化锌靶材，ZnO靶材、硫化锌靶材，ZnS靶材、硫化镉靶材，CdS靶材，硫化钼靶材，MoS2靶材，二氧化硅靶材，SiO2靶材、一氧化硅靶材，SiO靶材、二氧化锆靶材，ZrO2靶材、五氧化二铌靶材，Nb2O5靶材、二氧化钛靶材，TiO2靶材,二氧化铪靶材，HfO2靶材，二硼化钛靶材，TiB2靶材，二硼化锆靶材，ZrB2靶材，三氧化钨靶材，WO3靶材，三氧化二铝靶材，Al2O3靶材，五氧化二钽靶材，Ta2O5靶材、氟化镁靶材，MgF2靶材、硒化锌靶材，ZnSe靶材、氮化铝靶材，AlN靶材，氮化硅靶材，Si3N4靶材，氮化硼靶材，BN靶材，氮化钛靶材，TiN靶材，碳化硅靶材，SiC靶材，铌酸锂靶材、钛酸镨靶材、钛酸钡靶材、钛酸镧靶材等高密度陶瓷溅射靶材.

备注：CNM生产的陶瓷靶材采用世界*先进的陶瓷生产工艺—惰性气体保护热等静压烧结技术，相对密度大于95-99%。可以提供靶材的金属化处理及绑定服务。

高纯合金溅射靶材：镍钒合金靶材，Ni-V靶材，镍铬合金靶材，Ni-Cr靶材，钛铝合金靶材，Ti-Al靶材，硅铝合金靶材，Si-Al靶材，铜铟合金靶材，Cu-In靶材，铜镓合金靶材，Cu-Ga靶材，铜铟镓合金靶材，Cu-In –Ga靶材，铜铟镓硒靶材，Cu-In –Ga-Se靶材，不锈钢靶材，锌铝合金靶材，Zn-Al靶材，钨钛靶材，W-Ti靶材，铁钴靶材 ，Fe-Co靶材，白铜靶材等高纯合金溅射靶材。

备注：CNM生产的高纯合金溅射靶材：晶粒度小150-60um，相对密度高（99-99.9%），纯度高（99.9-99.999%）。可以提供靶材的金属化处理及绑定服务。
真空镀膜材料
（镀制：复合膜，彩色膜,增透膜，透紫外膜，气敏传感器膜，高温介质膜，光学膜，激光装置滤光片，保护膜，透明导电膜，变色膜，优良的宽带增透膜，磁性薄膜，可见光区增透膜，红外增透膜，分光膜，多层膜，高反射膜，电阻膜，热反射膜，冷光膜膜）


高品质真空镀膜材料（4N-5N）：

1.氧化物:一氧化硅靶材，SiO靶材,二氧化硅靶材，SiO2靶材,二氧化钛靶材，TiO2靶材,二氧化锆靶材，ZrO2靶材,二氧化铪靶材，HfO2靶材,一氧化钛靶材，TiO靶材,五氧化三钛靶材，Ti3O5靶材，五氧化二铌靶材，Nb2O5靶材，五氧化二钽，Ta2O5靶材,氧化钇靶材，Y2O3靶材等高纯氧化物镀膜材料。
2.氟化物：氟化钕靶材，NbF3靶材,氟化钡靶材，BaF2靶材，氟化铈靶材，CeF3靶材，氟化镁靶材，MgF2靶材，氟化镧靶材，LaF3靶材，氟化钇靶材YF3靶材，氟化镱靶材，YbF3靶材，氟化铒靶材，ErF3靶材等高纯氟化物。
3.其它化合物：硫化锌靶材，ZnS靶材，硒化锌靶材，ZnSe靶材，氮化钛靶材，TiN靶材，碳化硅靶材，SiC靶材，钛酸镧靶材，LaTiO3靶材，钛酸钡靶材，BaTiO3靶材，钛酸锶靶材，SrTiO3靶材，钛酸镨靶材，PrTiO3靶材，硫化镉靶材，CdS靶材等真空镀膜材料。
4.金属镀膜材料：高纯铝靶材，Al靶材，高纯铜靶材，Cu靶材，高纯钛靶材，Ti靶材，高纯硅靶材，Si靶材，高纯金靶材，Au靶材，高纯银靶材，Ag靶材，高纯铟靶材，In靶材，高纯镁靶材，Mg靶材，高纯锌靶材，Zn靶材，高纯铂靶材，Pt靶材，高纯锗靶材，Ge靶材，高纯镍靶材，Ni靶材,高纯金靶材，Au靶材，金锗合金靶材，AuGe靶材，金镍合金靶材，AuNi靶材，镍铬合金靶材，NiCr靶材，钛铝合金靶材，TiAl靶材，铜铟镓合金靶材，CuInGa靶材，铜铟镓硒合金靶材，CuInGaSe靶材，锌铝合金靶材，ZnAl靶材，铝硅合
金靶材，AlSi靶材等金属镀膜材料。

备注：CNM生产的真空镀膜材料均通过SGS认证，纯度高，溅点少，放气量小，薄膜均匀，附着力强，抗腐蚀性强，颜色均匀等优点。