- 主营行业: 烧结设备
- 经营模式：生产型
- 经营性质：私营企业
- 地区：山东
- 友情链接：粉末冶金
LPCVD化学相沉积设备
产品型号：
产品价格：
发布时间：2014-3-10 8:53:52
在线咨询
产品详情：
用途：用于半导体器件工艺中氮化硅、二氧化硅、多晶硅的薄膜制备
特点：一次设定自动完成，可另配气柜。真空系统可选配进口机组
主要技术指标：制备3-4吋氮化硅、多晶硅和二氧化硅薄膜；温度：400~900℃；
恒温区600mm±0.5℃；真空系统机械泵+罗茨泵，配有抽气冷井；
控温器采用进口5吋触摸屏；通入气体SIH4/NH3/N2;
进口质量流量计控制；阀门用进口气动阀和减压阀；动作顺序为PLC编程控制；
薄膜压力控制器加阀闭环控制压强
郑重声明：以上信息由企业自行发布，该企业负责信息内容的完整性、真实性、准确性和合法性。本网站对此不承担任何责任。
0532-87671566