常用作薄膜涂层。具有高的硬度和良好的耐磨性，是一种很受重视的耐磨涂层。用空心阴极离子镀制备的氮化铬膜具有Cr+Cr2N两相组织，晶粒度为20～70nm，硬度为HV22GPa。经真空退火后，能提高到HV35.4GPa。其耐磨性优于CrC膜。反应溅射法氮化铬膜能得到Cr+Cr2N或单相CrN两种组织，其硬度均在HV20～25GPa(块体CrN硬度HV11GPa)。用作耐磨涂层。